Представлена новая технология изготовления интегральных схем с нанометровыми размерами элементов

Источник: computerra.ru

Как известно, минимальный размер деталей рисунка, получаемого в процессе фотолитографии, прямо пропорционален длине волны используемого света. В настоящее время изготовителям все чаще приходится использовать ультрафиолетовое излучение, что усложняет технологию и повышает стоимость конечной продукции.

Группе ученых из Университета Мэриленда в Колледж-Парке (США) удалось значительно изменить и усовершенствовать традиционную методику: разработанная ими технология литографии RAPID (Resolution Augmentation through Photo-Induced Deactivation, «улучшение разрешения с помощью фотоиндуцированной деактивации») позволяет создавать объекты нанометровых размеров без использования ультрафиолета. «RAPID-литография обеспечивает получение деталей, размеры которых составляют всего пять процентов от длины волны применяемого излучения», — говорит руководитель группы Джон Фуркас (John Fourkas).

Суть технологии RAPID заключается в использовании сразу двух лазеров, один из которых служит для полимеризации фоторезиста, а другой, напротив, останавливает этот процесс. «Если вам в последние годы приходилось бывать у дантиста, вы знаете, что вязкий материал современных пломб затвердевает после облучения, — рассказывает профессор Фуркас. — А теперь представьте, что у врача появился второй источник излучения, с помощью которого можно изменять форму пломбы, предупреждая затвердевание в заданных местах». Примененные учеными титан-сапфировые лазеры функционировали на одинаковой длине волны (800 нм), однако первый — полимеризующий — работал в импульсном режиме, а второй был включен постоянно, причем его луч проходил через специальную оптическую систему, которая определяет форму получаемых объектов. В экспериментах было зафиксировано образование деталей размером 40 нм.

«Внедрить нашу технологию не составляет труда, ведь один лазер работает непрерывно, — объясняет г-н Фуркас. — Отпадает необходимость в синхронизации импульсов излучения». В настоящее время исследователи совершенствуют RAPID-литографию, пытаясь добиться двукратного сокращения минимальных размеров получаемых деталей.

Полная версия отчета ученых будет опубликована в журнале Science.